一．阵列的定义
通过重复复制、改变某一个（或一组）特征的指定尺寸，根据设定的变化规律和数量，自动生成一系列具有参数相关性的特征(组）。
在CREO 软件中，阵列的方式有以下八种：
1.尺寸阵列：需选取特征尺寸，并指定这些尺寸的增量变化以及阵列中特征实体数。
2.方向阵列：需选取平整面、线、轴来定义方向，同时也可以使用特征尺寸增量来控制阵列实体的形状及位置的变化。
3.轴阵列：通过围绕一个选定的旋转轴（基准轴等）创建特征副本的阵列方式。
4.填充阵列：指定的物体表面或部分表面区域，生成均匀的阵列。
5.表阵列：使用表格的方式设定阵列特征的空间尺寸和本身尺寸。
6.参考阵列：借助已有的阵列实现新阵列的方法，参考阵列操作对象必须与已有阵列的源实体有定位尺寸关系。
7.曲线阵列;指定阵列成员间距离或成员个数，来沿着草绘曲线创建其阵列特征。
8.点阵列：通过创建基准点或草绘几何点来创建其阵列特征。
温馨提示：
1.阵列特征不能直接使用【删除】命令来删除，因为这样会连你的原始特征也一起删掉，如果要保留原始特征，请使用【删除阵列】命令来删除
2.阵列预览中的黑点代表要进行阵列的位置，单击黑点将其变成白点，表示此位置不需要阵列。
3.若阵列的特征有多个，需将这些特征编组，然后再进行阵列
三．需要使用关系来控制阵列时，你会用到以下符号
memb_v - 指定方向中的关系驱动最终尺寸
memb_i - 指定方向中的关系驱动增量
lead_v - leader 值(选择尺寸确定方向)
idx1 -阵列实例索引在第一方向(代表当前实例特征在阵列中的位置，其值从
0 开始，第一方向第一个实例特征idx1=0,第五个实例特征idx1=4）
idx2 -阵列实例索引在第二方向(同上，只是方向不同而已）
不能在同一关系中使用memb_v 和memb_i，这些符号所代表的含义我将会在下面的这些实例中详细说明。
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