第二章 电镀基本原理与概念
2.1 电镀之定义
电镀(electroplating)被定义为一种电沉积过程(electrodepos- ition process), 是利用电极(electrode)通过电流,使金属附着于 物体表面上, 其目的是在改变物体表面之特性或尺寸。
2.2 电镀之目的
电镀的目的是在基材上镀上金属镀层(deposit),改变基材表面性质或尺寸。例如赋予金属光泽美观、物品的防锈、防止磨耗、提高 导电度、润滑性、强度、耐热性、耐候性、热处理之防止渗碳、氮化 、尺寸错误或磨耗之另件之修补。
2.3 各种镀金的方法
电镀法(electroplating)
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无电镀法(electroless plating)
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热浸法(hot dip plating)
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熔射喷镀法(spray plating)
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塑料电镀(plastic plating)
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浸渍电镀(immersion plating)
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渗透镀金(diffusion plating)
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阴极溅镀(cathode supptering)
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真空蒸着镀金(vacuum plating)
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合金电镀 (alloy plating)
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复合电镀 (composite plating
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局部电镀 (selective plating)
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穿孔电镀 (through-hole plating)
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笔电镀(pen plating)
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电铸 (electroforming)
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溶液性质
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物质反应
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电化学
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化学式
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界面物理化学
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材料性质
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E=E0+RT/nF ln aMn+/aM
E=电极电位
E0=电极标准状态电位(volt)
R=气体常数(8.3143 J.K-1MOL-1)
T=绝对零度( K)
n=原子价之改变数(电子移转之数)
aMn+=金属离子之活度(activity),若极稀薄之溶液,其活度就等于金属
离子之浓度(concentration)C。
一般则活度为浓度乘上活度系数,即a = r *c。
金属电极之活度,若为纯金属即为1 。
法拉第常数
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电极
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电位
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电极
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电位
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Li+ -3.045
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Co ?
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Co+2 -0.277
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Rb?
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Rb+ -2.93
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Ni ?
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Ni+2 -0.250
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K?
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K+ -2.924
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Sn ?
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Sn+2 -0.136
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Ba?
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Ba+2 -2.90
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Pb ?
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Pb+2 -0.126
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Sr ?
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Sr+2 -2.90
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Fe ?
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Fe+3 -0.04
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Ca ?
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Ca+2 -2.87
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Pt/H2?
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H+ 0.000
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Na ?
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Na+ -2.715
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Sb ?
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Sb+3 +0.15
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Mg ?
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Mg+2 -2.37
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Bi ?
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Bi+3 +0.20
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Al ?
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Al+3 -1.67
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As ?
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As+3 +3
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Mn ?
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Mn+2 -1.18
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Cu ?
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Cu+2 +0.34
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Zn ?
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Zn+2 -0.762
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Pt/OH-?
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O2 +0.40
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Cr ?
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Cr+3-0.74
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Cu ?
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Cu+ +0.52
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Cr ?
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Cr+2 -0.56
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Hg ?
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Hg2+2 +0.789
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Fe ?
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Fe+2 -0.441
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Ag ?
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Ag+ +0.799
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Cd ?
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Cd +3 -0.402
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Pd ?
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Pd+2 +0.987
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In ?
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In+3 -0.34
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Au ?
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Au+3 +0.150
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Tl ?
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Tl+ -0.336
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Au ?
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Au+ +1.68
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